碳化硅CVD沉积装备
设备概述
主要由真空炉体、炉门升降系统、加热室、真空获得系统、充气系统、水冷系统、电气控制系统、人机界面控制系统及真空控制系统等部分组成。
设备技术特点与优势
❶ 设备主要用于碳化硅的沉积,主要是制备碳化硅托盘;
❷ 采用立式上开门结构,高纯石墨作发热体,发热体按三区布置进行控温,可编程PID调节;
❸ 采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
❹ 全密闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
❺ 多通道工艺气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
❻ 多级高效尾气处理系统,能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物,环境友好;
❼ 可选配新设计的防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低;
❽ 使用工艺气氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/C3H6/ZrB2/HfB2/TaB2/MTS(选配)。
设备技术参数和功能会随着产品创新优化变化,详情请联系我们。
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